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现有技术

光催化氧化

    光催化氧化是一种高级氧化技术( advanced oxidation process,AOP) 。光催化剂(纳米TiO2为n型半导体材料)在光照的条件下能够产生强氧化性的自由基(•OH,•02), 该自由基能彻底降解几乎所有的有机物,并最终生成H2O、CO2 等无机小分子 纳米TiO2为n型半导体材料,当其受到能量大于禁带宽度(Eg)的光照射时,其价带上的电子(e-)受到激发,越过禁带进入导带,在价带留下带正电的空穴(h+);

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原理
    电子和空穴在电场作用下分离并向粒子表面迁移,在此过程中一部分电子和空穴重新复合,另一部分则与吸附在TiO2表面的02、H20发生一系列反应生成高活性羟基自由基•OH和•02等;TiO2空穴的电势大于3.0eV,比氯气、高锰酸根、臭氧甚至比氟气的电极电势还高,因此具有很强的氧化性。

 

优势
    1)三维网状结构,空隙率高达95%,通透性好,光催化反应比表面积大,效率高。

    2)应用广泛,几乎能分解所有有机污染物,有一定可塑性,易于加工成配套装置所要求形状,清洗和维护方便。

    3)反应条件温和, 反应设备简单, 二次污染小,操作易于控制。

    4) 催化材料易得, 运行成本低, 有望用太阳光为反应光源。


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